PVD是物理氣相沉積的縮寫，指在真空狀態下通過材料蒸發進行沉積鍍膜的技術。真空腔體是避免蒸發材料與空氣發生反應的必要條件。PVD鍍膜可賦予產品高附加值特性，如絢麗色彩、卓越耐磨性和減摩功能。該工藝通過使金屬材料汽化后與氮氣等反應氣體結合形成鍍層，基材材料在電弧工藝中受熱能激發或在濺射工藝中受動能作用，從固態轉變為氣態并發生電離。PVD技術全程符合環保要求，無污染產生。匯成真空始終專注于PVD鍍膜技術的研發與應用。
物理氣相沉積涵蓋薄膜技術中的特定工藝，特指采用物理方法在基材上沉積薄膜的真空鍍膜技術。在各類PVD技術中，濺射沉積因其經濟性成為眾多行業的標準化鍍膜方案，其優勢在于能在多樣化基材上沉積多種材料。該技術已廣泛應用于半導體表面精加工、光學偏振片制造、建筑玻璃大面積鍍膜等領域。我們不僅為客戶提供鍍膜系統，還憑借逾25年技術積累開發生產濺射靶材，形成完整的技術服務體系。
所有PVD工藝中，成膜材料初始均為固態并置于工藝腔內（如濺射靶材）。通過激光脈沖、電弧、離子/電子轟擊等汽化方式，材料在基材表面冷凝形成薄膜。熱蒸發沉積通過電加熱使材料釋放至氣相，分子束外延和離子束濺射也屬PVD工藝范疇。PVD鍍膜具有膜層純度極高、均勻性優異、附著力強等特點，為眾多應用領域提供了替代傳統電化學工藝的環保解決方案。
裝飾性PVD鍍膜設備可在五金件、不銹鋼板/管、玻璃、陶瓷、塑料、亞克力及樹脂等基材表面沉積裝飾性鍍層。該技術具備操作簡便、成本低廉及量產能力強等優勢，已廣泛應用于珠寶、鐘表、燈具、廚衛潔具、建筑、醫療、餐飲、科研、數碼、娛樂、電器、化妝品、玩具等行業。經鍍膜處理的產品能呈現典雅、炫目等多種持久美觀效果，且膜層長期不褪色，完美實現美學價值與實用性能的統一。
可制備多種具有光學功能的薄膜，用以改變基材的透射與反射特性。這類薄膜包括增透膜（AR）、紫外/紅外截止濾光片、防指紋膜（AF）、電機金屬膜、增透硬質膜、增強反射膜、硬質膜、裝飾膜、ITO導電膜、分色鏡、帶通濾光片、偏光片、RGB濾光片、光觸媒膜、高反射膜（HR）等，現已廣泛應用于數碼相機、智能手機、眼鏡、投影儀、光學讀頭、光通信、LED、電子產品、裝飾品、太陽能電池、顯示器等領域。
基于PMA-I專利技術，HCVAC公司進一步開發出PMA-II專利技術，并成功將該技術集成于新一代HCSH鍍膜系統。此系統具備靈活配置特性，可兼容電弧蒸發、磁控濺射、高功率脈沖磁控濺射等多種工藝技術，為新型涂層與材料的研發創造更多可能性，現已廣泛應用于科研、半導體、刀具、工模具、零部件、醫療器械、光學、新能源等行業領域。
采用磁控濺射或熱蒸發的PVD技術，可實現帶材基體的連續鍍膜。磁控濺射工藝適用于PET、PI、PC、COP等柔性聚合物帶卷及金屬帶材表面的連續涂層制備，可沉積鋁、鈦、鉻、銅、鎳鉻合金、鎳、銀等金屬材料，以及二氧化鈦、五氧化二鈮、二氧化硅、ITO、硅鋁氧化物、氧化鉬等氮化物與氧化物。而熱蒸發技術則適用于PET、雙向拉伸聚丙烯、聚氯乙烯、流延聚丙烯等高分子薄膜、紙張、金屬箔材的連續鍍膜，可加工鋅硫化物、一氧化硅、氟化鎂等化合物以及鋁、銅、銀等金屬材料。
HCVAC為汽車燈具及內飾照明行業提供專業的真空鍍膜設備與工藝解決方案，廣泛應用于汽車前照燈與尾燈、后視鏡、車標、進氣格柵、門把手、門窗裝飾條、內飾條及內飾照明等零部件的表面處理。該系列設備配備等離子體預處理裝置、高效磁控濺射陰極及電阻蒸發源等核心組件，具有沉積速率快、膜基結合力強、鍍層致密細膩、表面光潔度高及均勻性優異等特點。
主要用于平板玻璃、壓克力、PC、PET等基板上鍍膜，各種金屬膜，介質膜，介質金屬復合膜，透明導電膜，CF等膜層。本公司可按照用戶要求提供設計，提供全套設備，負責工藝，按“交鑰匙”工程服務。
